TSMC لیتوگرافی ۲ نانومتری N2 را با وعده ۵۶ درصد عملکرد بهتر از N5 معرفی کرد
شرکت تایوانی TSMC رسماً از لینوگرافی جدید ۲ نانومتری (N2) خود رونمایی کرد. هدف از توسعه‌ی این معماری، بهبود عملکرد و کاهش مصرف انرژی تراشه‌ها است و اولین سیستم-روی-چیپ‌های مبتنی‌بر این فناوری نیز اواخر سال ۲۰۲۵ روانه‌ی بازار خواهند شد.